10.3969/j.issn.1006-7086.2003.02.003
CVD金刚石膜场致发射的机理
金刚石膜场致发射过程是电子从导电基底开始,经基底/金刚石界面、金刚石薄膜体内传输到表面,然后穿过表面势垒进入真空、经真空电场加速到达阳极的一个复杂过程.对该过程进行了较为详细的分析和介绍.
场致发射、电子亲合势、势垒
9
TN304.055(半导体技术)
2004-09-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
76-80
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10.3969/j.issn.1006-7086.2003.02.003
场致发射、电子亲合势、势垒
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TN304.055(半导体技术)
2004-09-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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