10.3969/j.issn.1006-7086.2002.02.005
常温下合成金刚石薄膜
采用射频辉光放电的方法在含CH的混合气体的常温条件下制备了含碳的薄膜,通过Raman、XRD和SEM分析,检验了薄膜的性质,表明此膜含有大量的碳的SP3键的金刚石成分,其晶粒为10~100 nm,属于纳米金刚石膜.此膜已在玻璃镜片、塑料和磁盘等商品的保护方面获得了广泛的应用.
金刚石薄膜、辉光放电、纳米
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O484.1(固体物理学)
2004-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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