双密封结构泄漏过程浅析
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10.3969/j.issn.1006-7086.2001.03.013

双密封结构泄漏过程浅析

引用
用氦质谱加压真空法检测双密封结构产品漏率时,常有"缓慢升高"现象的发生,必需解决这一读数困难的问题.建立了双密封结构泄漏过程的数学模型,从而在理论上解释了此类现象发生的原因,并编制程序后对一些具体结构进行了分析计算.这对确定检漏时间和相应的数据处理方法有一定的指导意义.

氦质谱检漏仪、检漏、真空、双密封结构

7

TB774.+3;TH843(真空技术)

2004-12-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

184-186

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真空与低温

1006-7086

62-1125/O4

7

2001,7(3)

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