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10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2018.03.01

平面底栅型真空场发射三极管

引用
真空场发射三极管(VFET)是一种真空微电子器件,采用纳米缝隙真空沟道实现电子的传输,兼具真空管和半导体晶体管的优点.本文介绍了国内外VFET的研究进展,提出了一种平面底栅型VFET结构,对其电子发射特性和栅极调制特性进行研究.结果表明,三极管真空沟道中的电子发射为场致电子发射,栅极具有调制作用.所制备的VFET可在0.1 Pa条件下工作,如进一步减小真空沟道尺寸,有望实现大气环境下工作,展现出潜在的发展前景.

真空场发射三极管、平面底栅结构、电子发射特性、栅极调控机理

TN11;TN48(真空电子技术)

国家自然科学基金面上项目-纳米缝隙场发射真空晶体管结构与特性研究61771383

2018-08-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

前插1,1-5

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真空电子技术

1002-8935

11-2485/TN

2018,(3)

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