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10.3969/j.issn.1002-8935.2011.04.020

覆Os膜扩散阴极Os-W互扩散的探讨

引用
介绍了对覆锇扩散阴极锇膜与钨基间互扩散过程的研究结果.通过SEM对不同工作时间的阴极发射表面及纵向剖面的形貌进行分析,采用EDS对实验阴极的表面及纵向剖面进行元素成分的分析.研究表明,随工作时间的不同,阴极表面及纵向剖面Os-W浓度发生变化,呈现明显的扩散趋势.

阴极、Os膜、互扩散

O462(真空电子学(电子物理学))

2012-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

72-74,84

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真空电子技术

1002-8935

11-2485/TN

2011,(4)

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