10.3969/j.issn.1002-8935.2011.04.011
当前直接覆铜技术的研究进展
叙述了近期国内外关于直接覆铜(DBC)技术的发展动态,指出DBC技术在电力电子模块、LED器件以及半导体制冷等领域的广泛应用,特别是AlN基片的DBC工艺研究应该引起有关科技人员的关注.
直接覆铜、Al2O3、AlN、预氧化、原位氧化
TB756(真空技术)
2012-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
39-41
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10.3969/j.issn.1002-8935.2011.04.011
直接覆铜、Al2O3、AlN、预氧化、原位氧化
TB756(真空技术)
2012-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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