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10.3969/j.issn.1002-8935.2008.02.008

SED的磁控溅射法制作技术试验研究

引用
介绍了表面传导电子发射显示(SED),采取了一种使用PdO膜和ZnO膜磁控溅射制作SED的方法,它具有发射均匀的优点.SED器件的电极厚度、导电膜材料、导电膜宽度对发射性能有很大影响,文中对这些参数进行了讨论.通过参数的优化,得到了稳定、均匀的电子发射.

表面传导电子发射显示器、磁控溅射、导电膜

TN104.3(真空电子技术)

2008-07-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

30-33

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真空电子技术

1002-8935

11-2485/TN

2008,(2)

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