射频磁控溅射ZnO薄膜的微结构与光学特性

摘要：

研究了膜厚对ZnO薄膜微结构和光学性能的影响.采用射频磁控溅射法在单晶硅(111)和玻璃基片上制备了不同厚度的ZnO薄膜.通过X射线衍射、原子力显微镜和紫外可见光谱对薄膜进行了表征.结果表明薄膜结晶性能良好,在(002)晶面具有明显的c轴取向.随着薄膜厚度的增加,透射率下降,吸收边红移,禁带宽度逐渐减小.

关键词：射频磁控溅射、ZnO薄膜、微结构、光学性能

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金50642038;高等学校博士学科点专项科研项目20060357003;安徽省人才基金2004Z029;安徽省高等学校省级自然科学基金KJ2007B132;安徽省信息材料与器件重点实验室安徽大学开放基金

在线出版日期：2008-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

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