10.3969/j.issn.1002-8935.2007.01.004
高性能导电薄膜的制备
采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了Cr-Cu-Al-Cr薄膜,用焊接法测试薄膜附着性能,用X射线衍射仪、原子力显微镜和台阶仪对薄膜进行表征,研究溅射过程中以及在高温大气环境下薄膜的防氧化方法,分析薄膜晶粒大小与电性能关系,制备出性能较好的导电膜.
附着性、氧化、晶粒、电学性能
O484(固体物理学)
国家高技术研究发展计划863计划平板显示重大专项基金2005AA303G10
2007-06-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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