新型大规模三维均匀低温等离子源理论及设计
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1002-8935.2006.03.006

新型大规模三维均匀低温等离子源理论及设计

引用
给出了一种新型大规模三维均匀低温等离子源的工作原理、设计参数和具体实现方案.它使传统感应等离子源由二维均匀转变为三维均匀成为可能,为新型大规模集成芯片加工设备--等离子铣提供了必要的理论及技术准备.

横向磁化、三维均匀、等离子源

O4(物理学)

国家自然科学基金60371022

2006-08-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

17-20

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

真空电子技术

1002-8935

11-2485/TN

2006,(3)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn