CNT-FED中光刻工艺的研究

摘要：

在碳纳米管场致发射显示器件结构中,需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案.本文着重介绍了ITO玻璃的表面处理和光刻过程.实验中采用在紫外曝光条件下,对光刻工艺中影响其刻蚀结果分辨率的各种因素做出了系统分析.这些因素主要包括了对于感光胶的选择,玻璃表面的清洁度,丝网印刷工艺的操作,紫外光曝光时间的控制,酸腐蚀浓度.通过优化实验工艺,得到满足精度要求的精细条纹,得出最佳的光刻条件.

关键词：光刻、碳纳米管场致发射显示器件、ITO

分类号：TN27(光电子技术、激光技术)

资助基金：科技部科研项目2003CB314702;高等学校博士学科点专项科研项目20030286003

在线出版日期：2006-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：15-17,29