10.3969/j.issn.1002-8935.2004.01.021
内磁屏蔽表层黑化膜劣化原因分析与工艺处理
针对彩管用内磁屏蔽在黑化处理过程中出现的黑化膜劣化现象,通过分析与试验明确了其产生的原因并采取了有效的对策.着重述叙了清洗质量对黑化膜质量的影响.
清洗、黑化膜、内磁屏蔽、劣化
TN141.3+2(真空电子技术)
2004-03-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
73-75
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10.3969/j.issn.1002-8935.2004.01.021
清洗、黑化膜、内磁屏蔽、劣化
TN141.3+2(真空电子技术)
2004-03-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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