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10.3969/j.issn.1002-8935.2004.01.021

内磁屏蔽表层黑化膜劣化原因分析与工艺处理

引用
针对彩管用内磁屏蔽在黑化处理过程中出现的黑化膜劣化现象,通过分析与试验明确了其产生的原因并采取了有效的对策.着重述叙了清洗质量对黑化膜质量的影响.

清洗、黑化膜、内磁屏蔽、劣化

TN141.3+2(真空电子技术)

2004-03-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

73-75

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真空电子技术

1002-8935

11-2485/TN

2004,(1)

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