氧化锌铝透明导电膜

摘要：

本文在对ZAO膜与ITO膜性能比较的基础上,综述了ZAO膜的应用前景、国内外研究现状和制备技术,给出了用直流反应磁控溅射法制备ZAO膜的最佳工艺参数和测得的光电性能.

关键词：ZAO膜、磁控溅射、光电特性

分类号：TG11.3;O484;TN304.31(金属学与热处理)

在线出版日期：2004-03-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：39-44,49