10.3969/j.issn.1002-8935.2002.06.008
低温多晶Si TFT-LCD技术
介绍了大面积低温多晶Si薄膜晶体管液晶显示技术的发展水平.最近,低温多晶Si薄膜晶体管业已取得很大进展,比如高质量多晶Si薄膜的受激准分子激光退火(激光再结晶)工艺,大面积掺杂用离子掺杂工艺,以及低温原子团簇射式化学汽相沉积工艺.
薄膜晶体管液晶显示、低温、受激准分子激光退火(激光再结晶)、簇射式化学汽相沉积
TN873+.93(无线电设备、电信设备)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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