第二十二讲化学气相沉积(CVD)技术

摘要：

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)是在一定温度条件下,混合气体之间或混合气体与基材表面相互作用,并在基材表面上形成金属或化合物的薄膜镀层,使材料表面改性,以满足耐磨、抗氧化、抗腐蚀以及特定的电学、光学和摩擦学等特殊性能要求的一种技术.

机标关键词：化学气相沉积、第二十二

所属期刊栏目：60

分类号：O484;TB43(固体物理学)

在线出版日期：2023-02-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：86-88