附加偏置电场对电弧离子镀TiN薄膜结构和性能的影响

摘要：

为了改善电弧离子镀薄膜表面存在的大颗粒污染问题,在真空室内附加一个与靶-基连线垂直的偏置电场,探究不同偏置电压对薄膜表面形貌、微观结构和力学性能的影响规律.结果表明,不同电压下TiN薄膜均呈晶态,沿(111)晶面择优生长,薄膜的微观结构受偏置电场的影响很小.随偏置电压增大,薄膜的结合力、显微硬度呈现先增后减趋势,在24V时均达最大值,电压进一步增大到32V时,结合力和显微硬度反而有少许下降.偏置电场可以有效改善薄膜表面形貌,当电压为32V时,薄膜表面质量最好,摩擦因数仅为0.115.

关键词：电弧离子镀、偏置电场、表面形貌、显微硬度、结合力

所属期刊栏目：58

分类号：TG156.88;TB114.2(金属学与热处理)

资助基金：国家级大学生创新创业训练计划项目201810065009

在线出版日期：2021-01-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：63-66