10.13385/j.cnki.vacuum.2017.05.09
防蓝光纳米薄膜的磁控溅射制备技术及性能研究
以稀土材料钬靶,采用中频反应磁控溅射法设计并制备防蓝光多层纳米薄膜,并研究其光学、力学及耐候性等性能.研究表明:膜层对整个蓝光波段反射率达到40%左右,实现蓝光部分阻隔;600~780nm可见光波段透过率高达98%以上,反射率低于1%以下;表面铅笔硬度达到8H,3500次橡皮摩擦无变化;膜层耐候性能优良.
磁控溅射、钬靶、防蓝光膜、耐候性
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TB43;O484(工业通用技术与设备)
2017-10-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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