10.13385/j.cnki.vacuum.2017.05.08
溅射功率对Zn1-xMgxO薄膜性能的影响
用射频磁控溅射制备Zn1-xMgxO薄膜,通过对不同溅射功率制备的薄膜结构和薄膜的室温透射谱和光致发光光谱的分析,得到溅射功率对薄膜结构和形貌的和光学性能的影响.
射频磁控溅射、Zn1-xMgxO薄膜、透射谱、光致发光谱
54
O614.41;TB43;O484(无机化学)
2017-10-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
31-34
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10.13385/j.cnki.vacuum.2017.05.08
射频磁控溅射、Zn1-xMgxO薄膜、透射谱、光致发光谱
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O614.41;TB43;O484(无机化学)
2017-10-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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