新型弧光辉光协同共放电(APSCD)真空镀膜机的研制

摘要：

本文阐述了新型的弧光辉光协同共放电真空镀膜机的设计思想及应用,叙述了镀膜机的整体结构、圆柱靶的设计和磁场模拟、工件篮的结构和辉光弧光共放电的原理.实验对比了辉光弧光共放电和单独的辉光放电、弧光放电在镀膜速度、膜层硬度和耐蚀性等方面的差别,表明了这种新型镀膜机的优越性.

关键词：镀膜机、圆柱靶、工件篮

所属期刊栏目：50

分类号：O484;TB43(固体物理学)

资助基金：黑龙江省自然科学基金;深圳市科技研发项目

在线出版日期：2013-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：48-51