离轴溅射法中最佳几何参量的预测

摘要：

为提高磁控溅射薄膜的厚度均匀性,采用理论计算的方法分析了离轴溅射薄膜的厚度分布,结果表明最佳偏心距及对应的有效薄膜尺寸都与靶基距呈线性增大的关系.溅射原子的角分布、溅射环的宽度以及膜厚均匀性要求都会影响该线性关系.针对以上变化因子,本文归纳出了普适的公式,可方便地对实际工作进行指导.

关键词：膜厚均匀性、离轴溅射、普适公式、预测

所属期刊栏目：44

分类号：TB43;O484.5(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2007-06-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：5-8