10.3969/j.issn.1002-0322.2006.03.001
大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(二)
近年来,各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速,令人关注.本文针对这一领域,就主要膜系开发、设备结构、工艺、存在的问题及最新发展做了简单的归纳和介绍.
溅射镀膜、玻璃基片
43
TB43(工业通用技术与设备)
2006-06-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
1-4
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10.3969/j.issn.1002-0322.2006.03.001
溅射镀膜、玻璃基片
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TB43(工业通用技术与设备)
2006-06-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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