遮光对窄头橐吾形态及光合特性的影响

摘要：

对不同遮光条件下窄头橐吾Ligularia stenocephala形态及光合特性进行研究.结果表明:遮光处理对窄头橐吾形态特性有明显影响,在55%的遮光条件下,窄头橐吾具有较高的相对生长率.窄头橐吾的净光合速率日变化曲线在不同光照条件下均呈"双峰"型,在13:00出现明显的光合"午休"现象.在0(全光照),55%和75%遮光条件下,窄头橐吾的光补偿点分别为13.20,15.10和8.63 μmol·m-2·s-1;光饱和点分别为919.66,749.20和727.34μmol·m-2·s-1;最大净光合速率分别为7.13,9.29和8.21 μmol·m-2·s-1;表观量子效率分别为0.040 1,0.046 0和0.046 3.与时照相比,55%和75%的遮光使窄头橐吾的最大净光合速率增高了30.3%和15.1%.不同遮光条件下,窄头橐吾的光饱和点和光补偿点都比较低,表明其对光照的要求不高,属于耐荫植物,适宜在弱光照环境下栽培与应用.图2表4参16

关键词：植物学、窄头橐吾、遮光、形态特征、光合特性

所属期刊栏目：25

分类号：S718.43(林业基础科学)

资助基金：浙江省科学技术攻关项目2002C32016;浙江省林业厅资助项目07A15

在线出版日期：2008-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：614-618