深亚微米SOIMOS器件研究与设计
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10.3969/j.issn.1006-4303.2002.04.009

深亚微米SOIMOS器件研究与设计

引用
利用自己设计的适合深亚微米SOIMOS器件模型及SPICE电路模拟程序,详细分析了小尺寸SOI器件的阈值电压、饱和漏电流、电导、跨导等与工艺参数的关系,通过大量的模拟、计算,我们提出了小尺寸FD SOIMOSFET的设计方案,并根据该方案研制出性能优良的沟道长度为0.2μm的SOIMOS器件.

SOIMOSFET、模拟、研究与设计

30

TN303(半导体技术)

2004-01-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

348-351

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浙江工业大学学报

1006-4303

33-1193/T

30

2002,30(4)

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