UV/NaClO高级氧化法降解再生水中磺胺甲恶唑

摘要：

为了提高再生水水质,采用UV/NaClO高级氧化法降解水中的磺胺甲恶唑(SMX),对比各种降解方法对SMX的去除效果,研究影响UV/NaClO降解SMX的因素,考察消毒副产物三氯甲烷(CHCl3)的产生情况,研究SMX在实际再生水中的去除效果.研究表明,UV/NaClO降解SMX的速率常数是单独UV、单独NaClO、UV/H2O23种处理方法的3.9、60、2.5倍,降解的最佳pH为3～8;NaClO投量会影响去除效果,在SMX初始浓度为1μmol/L,pH为7.4的条件下,最佳投量为0.1 mmol/L;污水厂二级出水和水环境中普遍存在的腐殖酸会与SMX竞争活性自由基和光子,降低了SMX去除率;与单独NaClO处理相比,利用UV/NaClO工艺能够明显减少水中三氯甲烷的产生;SMX在实验室超滤机过滤后的自来水中的降解速率是在实际再生水中的6.8倍.

关键词：UV/NaClO、磺胺甲恶唑(SMX)、降解速率、三氯甲烷(CHCl3)、再生水

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分类号：X703(一般性问题)

资助基金：北京市属高等学校高层次人才引进与培养计划资助项目;城市雨水系统与水环境省部共建教育部重点实验室研究基金

在线出版日期：2019-03-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：186-192,206