10.3785/j.issn.1008-973X.2005.03.029
射频溅射制备镁钙微波陶瓷薄膜的研究
制备了膜层质量良好的镁钙微波介质陶瓷(MCT)薄膜.采用高密度等离子体射频溅射法在(110)二氧化硅上沉积了MCT陶瓷薄膜.研究结果表明: 薄膜态MCT陶瓷具有和块状材料相近的微波介电特性,MCT薄膜的介电常数在20左右,品质因子在23THz左右;溅射气体的氩氧混合体积比会明显影响薄膜膜层质量及其介电特性,氧分压的变化改变了八面体C轴长度,使晶格畸变和八面体向四面体转变;溅射功率和退火工艺温度也会影响薄膜质量.
微波介质陶瓷、MCT、介质薄膜、射频溅射
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O484.8(固体物理学)
国家自然科学基金50172042
2005-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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449-452