4种粘接剂对牙本质粘接界面的纳米渗漏研究

摘要：

目的:通过纳米渗漏检测技术,观察4种粘接剂对牙本质粘接界面的微观形态及纳米渗漏情况,为临床上纳米渗漏的预防和牙本质粘接剂的选择提供参考.方法:选取48颗正常第三磨牙,随机分为4组,分别用A(Single bond 2)、B(Clearfil SE Bond)、C(XenoⅢ)、D(Easy one)4种粘接剂制备试件,50％硝酸氨银溶液渗染,扫描电镜下观察比较粘接界面的纳米渗漏程度.结果:4种粘接剂均有纳米渗漏发生.A组的纳米渗漏位于混合层底部,B、C和D组全层均可见.其中,A和C组的纳米渗漏无显著性差异(P＞0.05),两者均多于B组,少于D组.结论:所有粘接剂均有纳米渗漏发生.全酸蚀粘接剂发生在混合层底部,自酸蚀粘接剂全层均可见.Clearfil SE Bond的纳米渗漏较Single bond 2和XenoⅢ少,Easy one的纳米渗漏最明显.

关键词：粘接剂、牙本质、扫描电镜、纳米渗漏、边缘密合性

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分类号：R783(口腔科学)

资助基金：天河区科信局课题项目编号:201504KW020国家自然科学基金青年科学基金项目81603668

在线出版日期：2018-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：161-164