10.3969/j.issn.1672-2973.2011.02.003
硅对人恒前磨牙早期釉质龋再矿化影响的扫描电镜观察
目的:借助扫描电镜观察硅对脱矿釉质再矿化的影响.方法:用基础再矿化液和加硅的再矿化液对脱矿后的离体恒前磨牙牙釉质标本进行再矿化处理,用扫描电镜观察其表面形态及组织学变化.结果:对照组蜂巢状结构清晰,凹陷底部见球状沉积物,已变浅.实验组蜂巢状结构不清晰,大量微球状和球状颗粒沉积,凹陷变浅,有的地方已经填平,呈光滑形态.结论:1ppm Si的再矿化溶液能够明显促进脱矿牙釉质的再矿化.
硅、再矿化、龋病、扫描电镜
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R781.1(口腔科学)
2011-11-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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