经牙槽嵴顶入路非冲顶式上颌窦底提升及种植体同期植入术探讨

摘要：

上颌后牙缺失后牙槽嵴萎缩、上颌窦气化均使种植体植入困难,上颌窦内、外提升技术解决了部分难题,但也存在各自的局限性与缺点”1-4”.北京大学口腔医学院·口腔医院第一门诊部种植中心自2009年8月至2012年9月,以登腾(dentium advanced sinus kit,DASK)工具(Dentium,韩国)经牙槽嵴顶入路进行上颌窦底提升+种植体同期植入手术共25例(28枚种植体),效果良好.该方法操作简单,手术时间缩短、创伤小,上颌窦底提升幅度较传统骨挤压式内提升更加灵活,并可避免敲击震荡给患者带来的恐惧和不适.现介绍如下.

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在线出版日期：2013-04-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：183-185