磁控溅射后的钼靶材的基础性能研究与再应用开发

摘要：

钼金属具有熔点高、导电导热性好、热膨胀系数低、耐腐蚀性能强及环境友好等优点,利用钼金属加工制备的溅射靶材已广泛应用于电子器件、太阳能电池及玻璃镀膜等领域.随着平面显示器行业和光伏行业的快速发展,钼溅射靶材的需求量越来越大,但目前对被溅射之后的靶材的基础性能研究很少.本文针对溅射后的钼靶材的基础性能做了研究并对其再应用开发进行了总结和讨论.

关键词：溅射;靶材;晶粒尺寸;基础性能;再应用开发

所属期刊栏目：39

分类号：TF124;TF125.241(冶金技术)

在线出版日期：2021-11-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：66-69,73