低温等离子射频消融治疗插管性喉肉芽肿患者一例的护理
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10.3969/j.issn.1007-4856.2015.01.025

低温等离子射频消融治疗插管性喉肉芽肿患者一例的护理

引用
气管插管后喉肉芽肿首由Clausen于1932年报道,是成人气管插管相对罕见的并发症[1].气管插管时披裂软骨及声带突受到机械损伤,局部产生溃疡,加之气管插管保留时间长,一般4~6周左右形成肉芽肿.插管后声带肉芽肿多见于女性,这可能与女性的喉声门比较小,喉腔黏膜较薄等因素有关[2].其准确发生率难以统计,估计约为1~350/万,可出现在喉腔各部,常见于声带突内侧面,当肉芽成熟呈蒂状或肉芽肿物过大引起呼吸困难时需行手术切除[3-5].我科于2012年9月6日收治了一例气管插管后喉肉芽肿患者,使用低温等离子射频消融系统成功的实施了手术,术后12d治愈出院,术后3、9、15个月回访,效果良好.现将护理体会报告如下.

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2015-05-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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中国中西医结合耳鼻咽喉科杂志

1007-4856

34-1159/R

23

2015,23(1)

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