TC4合金表面激光熔覆TiAl涂层的高温循环氧化行为

摘要：

采用激光熔覆工艺在TC4基体表面制备了TiAl涂层,分别对TC4基体与TiAl涂层在600、800、900和1000℃下开展了循环氧化50 h实验,分析TC4基体与TiAl涂层在不同温度下的氧化动力学行为、氧化膜的物相、表面形貌及元素分布,并对其高温氧化机理进行了阐述.结果表明:涂层氧化动力学曲线近似符合抛物线规律,且单位氧化质量增加和氧化速率均比TC4基体小.TiAl涂层在600、800、900和1000℃下的氧化质量增加分别为TC4基体的12.5％、20％、55.6％和35.7％.TiAl涂层的氧化产物主要为Al2O3和TiO2,在600～900℃之间氧化物均匀致密无破损,在1000℃下出现氧化膜的破损、剥落.TiAl涂层的氧化极限较TC4基体至少提高300℃,表现出优异的高温抗氧化性能.

关键词：TC4钛合金、激光熔覆、TiAl涂层、高温循环氧化、氧化动力学

所属期刊栏目：33

分类号：TG174(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金;贵州省科技计划资助项目;贵阳市科技计划资助项目;国家重点研发计划

在线出版日期：2023-04-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

页码：400-412