10.19476/j.ysxb.1004.0609.2017.07.11
磁控溅射制备CrMoAlN梯度薄膜的抗高温氧化性能
采用非平衡磁控溅射离子镀技术在M2工具钢和单晶Si表面沉积CrMoAlN梯度薄膜,并在静态空气中进行600、700、800、900℃的高温氧化实验.采用XRD、SEM、XPS、纳米压痕和划痕实验等研究,结果表明:CrMoAlN薄膜呈现与CrN相似的面心立方结构,主要以CrN、AlN和γ-Mo2N形态存在.经800℃氧化2 h后,CrMoAlN薄膜基本保持常温时的晶体结构与力学性能.随着氧化温度继续升高,薄膜表层的MoO3加速挥发,破坏由Cr2O3和Al2O3组成的致密氧化层,薄膜表面出现细小孔隙,薄膜氧化程度加剧.经900℃氧化2 h后,CrMoAlN薄膜的力学性能和膜/基结合强度均出现明显下降.
CrMoAlN梯度薄膜、磁控溅射、微观结构、高温氧化
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TG174(金属学与热处理)
浙江省自然基金资助项目LY15E050017Project LY15E050017 supported by Zhejiang Natural Science Foundation, China
2017-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
1403-1410