化学气相沉积钨显微组织缺陷的形成与控制

摘要：

以WF 6为前驱体，采用化学气相沉积法(CVD)在纯铜基体上沉积出钨涂层。利用光学显微镜(OM)和扫描电镜(SEM)分析研究钨制品组织缺陷的形成。结果表明：反应物浓度起伏对化学气相沉积钨的显微组织具有显著影响。当n(WF 6)：n(H 2)≥1：3时，沉积物为柱状晶组织；当n(WF 6)：n(H 2)＜1：3时，该沉积层晶粒明显细化，显微组织为细晶层状结构。另外，沉积过程中杂质形状也显著影响沉积层的显微组织。当基体表面存在一维杂质时，沉积制品表面产生明显的凸起，严重影响制品的表面质量和显微组织的均匀性；当沉积过程中存在零维杂质时，沉积层出现放射状的组织结构。

关键词：WF6、钨、化学气相沉积、反应物浓度起伏、杂质形状、组织缺陷

分类号：TG146.4(金属学与热处理)

在线出版日期：2015-07-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1648-1654