钛合金表面Ta-W涂层的制备及循环氧化行为
采用电弧离子镀(AIP)在Ti-6.48Al-0.99Mo-0.91Fe(质量分数,%)钛合金表面制备Ta-10W(质量分数,%)涂层。通过扫描电镜(SEM)与能谱(EDS)分析、透射电镜(TEM)分析、电子探针分析(EPMA),X衍射分析(XRD),划痕及纳米压痕试验,研究钛合金基体与Ta-W涂层经900℃大气循环氧化前后的物相组成、组织形貌及性能,讨论涂层/基体的氧化行为。结果表明:沉积态Ta-W涂层连续、均匀、致密,由颗粒细小(≤50 nm)的α-Ta(W)堆积成100~250 nm的等轴晶组成,硬度为14.4~15 GPa,与基体的临界载荷为58.5 N;经900℃大气循环氧化后,钛合金表面形成带裂隙的层状TiO2、Al2O3疏松混合氧化膜,氧化膜明显脱落;Ta-W涂层能明显提高钛合金的抗循环氧化性能,形成以β-Ta2O5为主的致密氧化膜;随着氧化的进行,氧化膜中TiO2、Al2O3含量增加并出现AlTaO4、AlWO 4相,氧化膜始终保持完整;氧化过程中,基体中Ti、Al元素及涂层中Ta、W元素互扩散,在界面形成AlTa 2、Al2Ta3、Al3Ti、TixW1?x相,O元素扩散并固溶于基体,在近界面基体处形成厚度逐渐增加的富Ta、W、Al、O、α-Ti固溶体(稳定)区,涂层元素向氧化膜和基体扩散而被消耗为其失效的主要原因。
Ta-W涂层、钛合金、循环氧化、元素扩散
TB43(工业通用技术与设备)
国家自然科学青年基金资助项目51101054;湖南省自然科学基金资助项目14JJ3132;新金属材料国家重点实验室开放基金资助项目2012-Z03
2015-07-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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