基片温度对WO3薄膜的微观结构和NO2气敏特性的影响
采用直流反应磁控溅射法,在不同的基片温度条件下制备出具有不同微观结构的WO3薄膜,探讨这些薄膜作为气敏材料对NO2气体的气敏特性.WO3薄膜的晶体结构、表面及断面形貌分别采用X射线衍射和扫描电子显微镜进行表征.结果表明:随着基片温度的升高,具有单斜晶WO3结构薄膜的(200)衍射峰强度逐渐增强,薄膜由低基片温度(-75℃)的纳米粉体、过渡到中间基片温度(-50～300℃)的纳米薄膜、直至高基片温度(500℃)的纳米棒组成.所有WO3薄膜均在200℃的工作温度下获得对NO2气体的最大灵敏度.在相同的检测条件下,气体灵敏度随着基片温度的减小和NO2气体浓度(体积分数)的增加而增大.
三氧化钨、薄膜、基片温度、二氧化氮、气体传感器
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TN304.92(半导体技术)
国家优秀青年科学基金资助项目51422402;中央高校基本科研业务费资助项目N120501002;辽宁省高等学校优秀人才支持计划资助项目LJQ2013025;教育部高等学校博士学科点专项科研基金新教师类资助课题20130042120033;教育部留学回国人员科研启动基金资助项目47-3
2015-06-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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