Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响

摘要：

采用不同Si含量的TiSi复合靶和Cr靶,用射频磁控溅射工艺在Si基底片上沉积不同Si含量的CrN/TiSiN纳米多层膜.采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响.结果表明:随着Si含量的增加,CrN相的结晶程度先增加后降低,涂层的力学性能先提高后降低,当n(Si)∶n(Ti)=7∶18时获得最高硬度为31.5GPa.HRTEM观测表明,在n(Si)∶n(Ti)=7∶18时,TiSiN层在CrN层的模板作用下呈面心立方结构,并且与CrN层形成共格外延生长结构;当n(Si)∶n(Ti)=11∶14时,TiSiN层总体呈非晶结构,与CrN层的共格外生长结构被破坏.硬度的升高主要与TiSiN与CrN形成共格外延生长结构有关.

关键词：CrN/TiSiN纳米多层膜、Si含量、显微结构、力学性能、外延生长

所属期刊栏目：24

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51101101;上海市自然科学基金资助项目11ZR1424600;上海市教委重点学科项目J50503

在线出版日期：2014-06-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：739-744