高含量NaOH体系中Mg2SiO4的浸出机理

摘要：

以Mg(OH)2?4MgCO3?6H2O和SiO2为原料，采用高温固相法合成Mg2SiO4，利用XRD和Raman光谱表征其结构。通过正交试验，优化高含量NaOH中Mg2SiO4的浸出反应条件，得出最佳试验条件为：温度220℃，时间120 min，液固比6：1，NaOH溶液含量85%(质量分数)。在优化试验基础上，采用拉曼光谱对碱浸出过程进行在线检测，利用X射线衍射仪分析碱浸后的水浸渣，研究高含量NaOH中Mg2SiO4浸出反应机理，结果表明：在反应过程中硅氧四面体中的Si—O键被破坏，NaOH介入硅酸盐晶格中，Mg2+经过碱浸过程可以脱离SiO4阵列，以Mg(OH)2形式从其硅酸盐中得以释放。

关键词：Mg2SiO4、NaOH溶液、拉曼光谱、反应机理

分类号：TF11.31(冶金技术)

资助基金：国家重点基础研究发展计划资助项目2007CB613603；上海市现代冶金与材料制备重点实验室开放课题项目SELF-2009-02

在线出版日期：2013-07-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1764-1768