化学气相沉积ZrC涂层的缺陷形成机制及控制

摘要：

为减少化学气相沉积(CVD) ZrC涂层的缺陷，提高涂层的性能和使用寿命，深入分析化学气相沉积过程中ZrC涂层的缺陷特征和形成机制，主要利用扫描电镜对CVD-ZrC涂层的表面和断口进行观察。结果表明：ZrC涂层中存在的3类典型缺陷，即裂纹、片状脱落和“蠕虫状”凸起，裂纹是在涂层生长过程或冷却过程中受到热应力形成的。片状脱落发生在薄膜边缘应力集中的局部区域，慢速沉积可以有效消除网状缺陷和面缺陷，也可有效抑制贯穿裂纹甚至片状剥落的出现；“蠕虫状”凸起形成于反应器进气口易形成紊流场的位置，该凸起起到了类似韧性相增韧和压应力增韧的双重效果。

关键词：化学气相沉积、碳化锆涂层、形成机理、缺陷控制

分类号：TG407(焊接、金属切割及金属粘接)

资助基金：国家重点基础研究发展计划资助项目2011CB605805；中国博士后基金资助项目20110491262

在线出版日期：2013-07-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1611-1617