类金刚石/碳化钨多层膜的制备及其结构

摘要：

采用阳极型气体离子源结合非平衡磁控溅射的方法,在单晶硅及Ti6Al4V钛合金基体上制备掺钨类金刚石多层膜(DLC/WC),利用俄歇电子谱(AES)、透射电镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)及X射线衍射(XRD)等对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究.结果表明:所制备的膜层厚2.7μm,硬度高达3550HV,摩擦因数为0.139,与Ti6Al4V基体结合力为52 N;W主要以纳米晶WC的形式与非晶DLC形成WC/DLC多层膜,该多层膜仍呈现出类金刚石膜的主要特征.

关键词：类金刚石/碳化钨多层膜、微观结构、离子源、非平衡磁控溅射

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

在线出版日期：2013-04-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：443-447