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HP40合金表面原位制备复合氧化层

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采用原位氧化法于H2和水蒸汽形成的低氧分压环境中,在HP40合金表面制备复合氧化膜.用XRD、EDS和SEM分别表征合金表面氧化膜的物相、成分、形貌,以及在氧化层截面上各组元的线和面分布状态.结果表明,随着制备温度的升高,合金表面MnCr2O4尖晶石逐渐增加,其形貌由针状逐渐变为颗粒状,颗粒尺寸小于1μm;氧化膜的总厚度为7μm,由外向内分别为MnCr2O4尖晶石、Cr2O3和SiO23层.

HP40合金、原位氧化法、低氧分压

TG132.3(金属学与热处理)

2013-06-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

175-181

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