Ni75AlxV25?x合金中异相界面成分演化的微观相场模拟

摘要：

采用微观相场模型研究界面原子结构和相变方向对 Ni75AlxV25?x合金中异相间有序畴界和有序/无序相界成分演化的影响.结果表明:在异相间有序畴界处,V在有序畴界的DO22相一侧贫化,在有序畴界的L12相一侧偏聚;Al则在有序畴界的DO22相一侧偏聚,在有序畴界的L12相一侧贫化.Ni在异相间可迁移有序畴界处的成分受相变方向和界面结构的影响.在DO22相与无序相之间形成的相界处,Al和Ni偏聚,V则贫化;在L12相与无序相之间形成的相界处,Al和Ni贫化,V则偏聚.由于溶质拖拽效应,合金元素在有序畴界处的偏聚和贫化倾向不随有序畴界迁移改变,但程度变化.

关键词：Ni75AlxV25?x合金、微观相场、有序畴界、有序/无序相界、成分偏聚

分类号：TG146.4(金属学与热处理)

在线出版日期：2013-06-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：73-81