靶电流对磁控溅射AlSn20/C镀层耐蚀性的影响
采用非平衡磁控溅射技术在铝基轴承合金表面制备 AlSn20/C 复合镀层,通过扫描电镜形貌观察、交流阻抗和极化曲线的测量研究石墨靶电流对镀层组织与耐蚀性能的影响.结果表明:在电流0.2~0.8 A范围内,薄膜均以层状结构生长,且电流越小,薄膜组织越致密;镀膜后试样的电化学阻抗比基体的高5~6个数量级,石墨靶电流为0.2 A时,可将基体的自腐蚀电位由?1.42 V提高到?1.18 V,石墨靶电流是影响AlSn20/C复合镀层耐蚀性的一个重要因素,石墨靶电流越小,其耐蚀性越好.
轴承合金、AlSn20/C镀层、耐蚀性、自腐蚀电位
TB43(工业通用技术与设备)
2012-12-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
2289-2294
