固态输送ZrCl4低压化学气相沉积制备ZrC涂层的特征

摘要：

采用ZrCl4-CH4-H2-Ar反应体系、固态输送ZrCl4粉末低压化学气相沉积(CVD)制备ZrC涂层.研究温度对低压化学气相沉积ZrC涂层物相组成、晶体择优生长、涂层表面形貌、断面结构、涂层生长速度和沉积均匀性等方面的影响.结果表明:不同温度下沉积的涂层主要由ZrC和C相组成；随着温度的升高,ZrC晶粒(200)晶面择优生长增强,颗粒直径增大,表面致密性增加,沉积速率上升；涂层断面结构以柱状晶为主；随着离进料口距离的增加,涂层的沉积速率逐渐减小;1500℃时,沉积系统的均匀性比1450℃时的差.

关键词：ZrC涂层、温度、低压、化学气相沉积

所属期刊栏目：22

分类号：TQ050.4(一般性问题)

资助基金：国家重点基础研究发展计划资助项目2011CB605805;国家自然科学基金创新研究群体51021063

在线出版日期：2012-05-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：171-178