V型铝槽内腔微弧氧化的不均匀性

摘要：

采用恒压模式于硅酸盐体系中在V型内腔试件表面制备微弧氧化膜,研究V型角度对微弧氧化膜不均匀性的影响.采用数字式测厚仪、扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究其微观结构,利用电化学分析仪进行耐蚀性的评定.结果表明:V型试件内表面的相组成无明显差别,均为γ-A12O3,但其内表面的膜层厚度分布不同,且随着V型试件张角的增大,其内表面膜层厚度差值逐渐减小,由3.1 μm减小到0.4～0.9 μm,不均匀程度减小.此外,V型试件内表面边缘氧化膜层的耐蚀性较优,而靠近折弯处氧化膜层的耐蚀性较差,这是由于试件内表面受不同程度电力线屏蔽造成的.增大脉冲宽度对膜层不均匀性影响很小,但增加氧化处理时间后,试件内表面不均匀程度增大.

关键词：纯铝、V型槽、微弧氧化、不均匀性

所属期刊栏目：21

分类号：TG174(金属学与热处理)

在线出版日期：2012-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：2909-2915