Si(100)衬底上(110)取向La2/3Sr1/3MnO3薄膜的制备与性能

摘要：

用脉冲激光沉积法在Si(100)衬底上制备了(110)择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜,研究了环境氧压对薄膜结晶度、取向、表面形貌和微结构的影响.结果表明:10 Pa氧压下沉积的薄膜具有高结晶度的(110)择优取向,晶粒分布均匀,晶粒分布均匀,表面均方根粗糙度Rrms为1.35 nm.与无明显择优取向的薄膜相比,(110)择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜具有较高的饱和磁化强度(Ms)、金属-绝缘体相变温度(TM-I)和较低的电阻率(ρ).

关键词：庞磁电阻、磁性材料、脉冲激光沉积、择优取向

所属期刊栏目：21

分类号：TB332(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51002013,11174021

在线出版日期：2012-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：2857-2862