阵列电极研究F-对铜在5％Na2SO4溶液中腐蚀电化学行为的影响

摘要：

采用阵列电极技术、扫描电子显微镜、自腐蚀电位、极化曲线和电化学阻抗等电化学方法研究F-对铜在5％Na2SO4溶液中腐蚀电化学行为的影响.结果表明:F-使铜表面的腐蚀电流密度增大,自腐蚀电位负移,电化学阻抗降低,铜表面各区域的自腐蚀电位标准方差由21.08增加到28.31,阻抗标准方差由1.431增加到2.071.F-的存在使铜表面的腐蚀产物膜层的形貌及结构发生明显变化,腐蚀产物膜层由均匀致密分布的颗粒状转变为凹凸不平、疏松的多坑状.说明F-能加剧铜的腐蚀并破坏铜表面腐蚀产物膜层,加剧局部微区腐蚀的发生,铜腐蚀趋于不均匀.

关键词：阵列电极、铜、F-、电化学阻抗谱、腐蚀

分类号：TG174(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50571059,50615024;教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目NCET-07-0536.教育部创新团队计划资助项目IRT0739

在线出版日期：2011-11-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：1614-1622