Si基底磁控溅射制备CrN薄膜的表面形貌与生长机制
在Si基底上采用直流磁控溅射法制备CrN薄膜,利用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分析薄膜表面形貌和物相成分,探讨薄膜生长的动力学过程.结果表明只有当生长时间足够(1800s)时,才能形成具有CrN相的薄膜.随着CrN薄膜的生长,薄膜表面晶粒由三棱锥发展为三棱锥与胞状共存状,薄膜表面粗糙度逐渐增大,动力学生长指数β=0.50.
直流磁控溅射、表面形貌、粗糙度、生长指数
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TB3;TG14;TG17(工程材料学)
国家科技支撑计划资助项目2007BAE15B05
2011-12-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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