氢气浓度对常压化学气相沉积ZrC涂层的影响

摘要：

采用ZrCl4-CH4-H2-Ar体系在C/C材料基体上进行常压化学气相沉积(APCVD)制备碳化锆(ZrC)涂层.通过X射线衍射技术(XRD)和扫描电镜(SEM)对不同H2浓度下制备的ZrC涂层进行分析.对H2在沉积过程中的作用机制进行了讨论.结果表明:H2浓度对涂层的相组成、晶体的择优取向和结构形态有重要影响;无H2或H2浓度较低时,涂层含有大量的热解碳,由ZrC和碳两相组成,涂层呈多孔颗粒状;当H2浓度(体积分数)增加到30%以上时,涂层的相成分变为单一ZrC相;当H2的浓度增加到90%时,ZrC晶体取向由(111)、(200)转变为强烈的(220)择优取向,晶粒形貌变为纳米针状.

关键词：ZrC涂层、常压化学气相沉积、H2浓度、择优取向

所属期刊栏目：20

分类号：TQ134.1

资助基金：国家高技术研究发展计划资助项目2007AA03Z110;国家自然科学基金创新研究群体项目50721003;国家重点基础研究发展计划资助项目2011CB605805

在线出版日期：2010-11-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1795-1801