微弧氧化非连续成膜对膜层结构及性能的影响

摘要：

在含有Na_2SiO_3和KOH的电解液中以恒定电压氧化方式对工业纯铝进行微弧氧化处理,研究电压对非连续微弧氧化成膜特性的影响.采用XRD及SEM对微弧氧化膜的相组成及表面形貌进行分析.结果表明:非连续微弧氧化的电流在工作间隔处出现一定程度的降低;非连续工作模式的膜层生长速率与连续模式基本相同,并且都随工作电压的增加而增加;不同成膜模式所生长的微弧氧化膜均由较多的γ-Al_2O_3和少量的α-Al_2O_3相组成;非连续成膜方式对微弧氧化陶瓷膜的形貌影响不大,且未造成氧化膜分层现象;不同成膜模式下所形成的微弧氧化陶瓷层的耐磨性能和耐腐蚀性能随工作电压变化具有相同的变化规律,均随电压的增加而增大;非连续成膜提高了微弧氧化控制的灵活性.

关键词：纯铝、微弧氧化、非连续模式、耐磨性、耐蚀性

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分类号：TG174.451(金属学与热处理)

资助基金：新世纪优秀人才支持计划资助项目NCET-05-0349:哈尔滨市优秀学科带头人基金资助项目2006RFXXS012

在线出版日期：2010-04-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：2210-2215