固溶处理对AZ91D镁合金微弧氧化的影响

摘要：

研究AZ91D镁合金的固溶处理对其微弧氧化成膜的影响.结果表明:固溶态基体由于成分分布均匀而能够迅速成膜并长大,且在相同的微弧化处理时间内其膜层厚度始终大于铸态基体上的膜层厚度,提高幅度约为40%;随反应时间的延长,膜层厚度逐渐增加,微弧氧化膜表面的喷射空洞和喷射沉积物呈现粗大化趋势,膜层表面粗糙度也随之增大;在微弧氧化反应初期,固溶态基体上膜层粗糙度较小;反应约100 S后,固溶态基体膜层的粗糙度逐渐超过铸态基体膜层的粗糙度;当微弧氧化膜厚度相同时,固溶态基体上膜层的粗糙度始终小于铸态基体膜层的;微弧氧化膜上存在微裂纹,铸态基体膜层上的裂纹深而长,呈连续分布且随处可见;固溶态基体膜层上裂纹浅而短,呈单个分布且数量较少;固溶处理带来的基体成分的均匀化能降低微弧氧化生成同厚度膜层的能耗.

关键词：AZ91D镁合金、热处理、微弧氧化膜

所属期刊栏目：19

分类号：TG146.2;TG174.451(金属学与热处理)

资助基金：国家重点基础研究发展计划资助项目2007CB613700;教育部春晖计划资助项目Z2006-1-62002;甘肃省国际科技合作计划资助项目0708WCGA151

在线出版日期：2010-01-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1741-1747